黄仁勋透露：GAA技术2028年为NVIDIA新GPU提20%性能

近日，在GTC 2025大会的访谈中，NVIDIA首席执行官黄仁勋表示，基于环绕栅极（GAA）晶体管的下一代制程技术，将为新一代GPU带来约20%的性能提升。若不出意外，黄仁勋所指的新一代GPU应为预计在2028年推出的Feynman架构产品。

报道显示，黄仁勋在问答环节似乎有意淡化制程节点变化的重要性。他强调，随着摩尔定律的放缓，未来全新的制程技术在芯片密度、功率和能效方面的改进较为有限，预计只能带来20%左右的性能提升。黄仁勋指出，尽管领先工艺技术带来的改进值得肯定，但已不再具有变革性意义。他表示“我们会接受它”，同时认为其他因素在当下更为关键。随着人工智能系统的不断扩展，管理大量GPU的效率变得比单个GPU的原始性能更为重要。

从过往情况来看，NVIDIA通常不会率先采用台积电最新的工艺制程，而是倾向于选择次新的成熟制程技术。例如，目前NVIDIA使用台积电的4nm制程技术生产面向消费级和数据中心的Ada Lovelace、Hopper和Blackwell等架构的GPU，而台积电的4nm节点制程实际上是5nm节点制程的改良版本。据悉，NVIDIA的下一代GPU架构RuBin计划采用台积电3nm节点制程，可能是N3P或者为NVIDIA定制的版本。

由此推断，NVIDIA首款采用GAA制程技术的产品大概率是2028年推出的Feynman架构GPU。不过，黄仁勋并未提及会采用哪家厂商的GAA制程技术，所以理论上台积电的N2制程技术、三星的类似技术，甚至是Intel 18A都有被选用的可能。（Suky）

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