北方华创重磅推出12英寸低压化学气相硅沉积立式炉 引领半导体设备新突破

北方华创发布12英寸低压化学气相沉积设备 突破高端芯片制造关键技术

极客网7日讯，北方华创正式推出SICRIUS PY302系列12英寸低压化学气相沉积（LPCVD）立式炉设备，瞄准高端逻辑芯片与存储芯片制造需求。该设备成功攻克高深宽比结构填充、高平坦度薄膜生长及低温工艺兼容三大技术难题，显著提升非晶硅与多晶硅薄膜沉积工艺水平。

此次发布标志着北方华创在半导体装备领域再获突破，其技术指标已达到国际先进水平，有望加速国产高端芯片制造设备的进口替代进程。该设备的量产应用将助力国内晶圆厂提升先进制程竞争力，进一步巩固北方华创在国内半导体设备市场的领先地位。

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