ASML独家披露：EUV光刻机仅售5台，Intel悄然转变，光刻机不再那么重要了

近日，ASML独家披露，该公司向客户仅售出五台高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，引发业界对于光刻机在芯片制造中的重要性的重新评估。特别是，Intel这一全球领先的半导体公司，其悄然转变引发了市场的广泛关注。

首先，让我们回顾一下High-NA EUV光刻机的背景。这款光刻机是ASML的最新一代产品，具有更高的数值孔径，能够更精确地将芯片设计图案转移到晶圆表面。它的出现被业界普遍认为是对于先进芯片开发和下代处理器生产的关键推动。

然而，时至今日，各大晶圆代工厂都在减少依赖High-NA EUV，延后导入时间。特别是Intel的这一举动，让市场对High-NA EUV光刻机的前景产生更多疑问。据不愿透露姓名的Intel董事的说法，新型晶体管设计如GAAFET和CFET，正在降低芯片制造对先进光刻设备（尤其是EUV光刻机）的依赖。

这些设计是从四面包裹栅极，更偏用蚀刻去除多余材料，而不是增加晶圆曝光时间以缩小电路尺寸。芯片生产时横向重要性日益增加，High-NA EUV的重要性相对降低。该董事认为，新型设计将显著增加刻蚀工艺在制造步骤中的重要性，从而削弱光刻在整体工艺中的主导地位。

尽管如此，这并不意味着光刻机的重要性完全消失。实际上，未来的重点可能从单纯依赖光刻机缩小特征尺寸，转向更复杂、更关键的刻蚀工艺，以确保这些新型三维晶体管结构的精确成型。这一转变预示着芯片制造技术路线可能迎来重大转变。

值得注意的是，前不久台积电也表达过类似的观点。他们认为在1.4nm级工艺技术中，不需要High-NA EUV光刻机，目前找不到非用不可的理由。这也从另一个角度说明了光刻机在未来芯片制造中的角色变化。

回顾过去，我们可以看到ASML的高数值孔径（High-NA）EUV光刻机的确是世界上最先进的光刻机之一，其高昂的价格让很多厂商望而却步。而现在，ASML仅向客户交付五台的事实，也反映出这一设备在市场上的需求可能并不如预期的高。

然而，这并不意味着光刻机的时代已经结束。相反，随着新型设计的出现和刻蚀工艺的发展，光刻机将在未来继续发挥重要作用。而Intel的悄然转变，也为我们提供了一个观察未来芯片制造技术发展的窗口。

总的来说，ASML独家披露的EUV光刻机销售数据和Intel的悄然转变都为我们提供了一个重新审视光刻机在芯片制造中地位的机会，未来，我们将看到更多的创新和变革在这个领域中出现。

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